| 发明名称 | 蚀刻气体控制系统 | ||
| 摘要 | 本发明提供一蚀刻气体控制系统，此系统包括一气体注射器、一气体供应管、一流量比控制器、及一气体供应单元。该气体注射器安装在一容室内，并供应气体至容室内部。该气体注射器包括一安装于容室顶部的顶部注射器，及一安装于容室一侧的侧部注射器。该气体供应管与该气体注射器连接，并供应气体至该气体注射器。该流量比控制器与该气体供应管连接，并控制气体的供应。该气体供应单元则供应气体至该流量比控制器。 | ||
| 申请公布号 | CN101299406A | 申请公布日期 | 2008.11.05 |
| 申请号 | CN200810095599.6 | 申请日期 | 2008.04.29 |
| 申请人 | 显示器生产服务株式会社 | 发明人 | 朴根周;蔡焕国;李炳日;金起铉;李元默 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/306(2006.01);G05D7/06(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 刘佳斐;蔡胜利 |
| 主权项 | 1.一种蚀刻气体控制系统，其包括：一气体注射器，安装于一容室内，用以供应气体至该容室内部；该容室中安装有一晶圆；该气体注射器包括：一顶部注射器，安装在该容室的顶部，并从晶圆顶部方向供应气体；及一侧部注射器，安装在该容室一侧部，并从晶圆一侧向供应气体；一气体供应管，与该气体注射器连接并供应气体至该气体注射器；一流量比控制器，与该气体供应管连接，并控制气体的供应；及一气体供应单元，供应气体至该流量比控制器。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||