发明名称 METHOD OF TREATING SUBSTRATE
摘要
申请公布号 EP1505641(A4) 申请公布日期 2008.11.05
申请号 EP20030749985 申请日期 2003.03.28
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 MATSUYAMA, SEIJI;SUGAWARA, TAKUYA;OZAKI, SHIGENORI;NAKANISHI, TOSHIO;SASAKI, MASARU
分类号 H01L21/28;H01L21/31;H01L21/314;H01L21/316;H01L21/469;H01L21/76;H01L29/51;H01L29/78;(IPC1-7):H01L21/318 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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