| 发明名称 | 衬底支架、衬底处理装置和放置衬底的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种衬底支架、衬底处理装置和放置衬底的方法，所述衬底支架用于将待处理的衬底支撑在真空处理室中，包括：用于承载所述衬底的框架；固定安装到所述框架的至少第一紧固装置，用于通过将所述衬底安装到所述第一紧固装置来将所述衬底相对于所述框架对准。衬底支架还至少包括以可移动方式安装到所述框架的第二紧固装置，所述第二紧固装置相对于所述框架可动和/或相对于安装到所述第一紧固装置的所述衬底可动，特别是沿着至少朝向和/或远离安装到所述第一紧固装置的所述衬底的边缘的方向。 | ||
| 申请公布号 | CN101299416A | 申请公布日期 | 2008.11.05 |
| 申请号 | CN200810095078.0 | 申请日期 | 2008.04.28 |
| 申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | 迪特尔·哈斯;托马斯·贝尔格;西蒙·劳 |
| 分类号 | H01L21/687(2006.01);H01L21/00(2006.01);C23C14/50(2006.01);H01J37/32(2006.01) | 主分类号 | H01L21/687(2006.01) |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 赵飞 |
| 主权项 | 1.一种衬底支架(1)，用于将待处理的衬底(14)支撑在真空处理室中，所述衬底支架(1)包括：用于承载所述衬底(14)的框架(2a、2b、2c、2d)；和固定安装到所述框架(2a、2b、2c、2d)的至少第一紧固装置(6、7)，用于通过将所述衬底(14)安装到所述第一紧固装置(6、7)来将所述衬底(14)相对于所述框架(2a、2b、2c、2d)对准，所述衬底支架的特征在于，所述衬底支架(1)还至少包括以可移动方式安装到所述框架(2a、2b、2c、2d)的第二紧固装置(12、13)，所述第二紧固装置(12、13)相对于所述框架(2a、2b、2c、2d)可动和/或相对于安装到所述第一紧固装置(6、7)的所述衬底可动，特别是沿着至少朝向和/或远离安装到所述第一紧固装置(6、7)的所述衬底(14)的边缘(14’)的方向。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||