| 发明名称 | 蚀刻液回收系统与方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种蚀刻液回收系统，包括：蚀刻槽，用以进行蚀刻反应，且蚀刻反应形成含杂质的废液；蚀刻液供应装置，用以供应蚀刻液至蚀刻槽；杂质移除装置，用以接收来自蚀刻槽的废液并移除废液中的杂质，以形成回收蚀刻液；以及混酸与浓度调整装置，用以对回收蚀刻液进行混酸与浓度调整步骤。 | ||
| 申请公布号 | CN100431113C | 申请公布日期 | 2008.11.05 |
| 申请号 | CN200510003670.X | 申请日期 | 2005.01.07 |
| 申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 刘家彰;李玮华;吴明杰 |
| 分类号 | H01L21/3213(2006.01);C23F1/16(2006.01);C23F1/00(2006.01);B01J19/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/3213(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 李晓舒;魏晓刚 |
| 主权项 | 1.一种蚀刻液回收系统，包括：一蚀刻槽，用以进行一蚀刻反应，且该蚀刻反应形成一含杂质的废液；一蚀刻液供应装置，是供应一蚀刻液至该蚀刻槽；一杂质移除装置，是接收该废液并移除该废液中的杂质，且形成一回收蚀刻液；一混酸与浓度调整装置，是对该回收蚀刻液进行一混酸与浓度调整步骤；一废液储存槽，用以接收来自该蚀刻槽的该含杂质废液并将该含杂质废液排至该杂质移除装置中；一回收蚀刻液储存槽，用以接收来自该杂质移除装置的该回收蚀刻液并将该回收蚀刻液排至该混酸与浓度调整装置中；以及一蚀刻液缓冲槽，用以接收来自该混酸与浓度调整装置的该回收蚀刻液并将该回收蚀刻液排至该蚀刻槽中。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹市 | ||