发明名称 |
一种垂直栅极结构的发光晶体管及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种垂直栅极结构的发光晶体管及其制备方法。本发明的发光晶体管,在衬底上依次生长着缓冲层、高浓度n型层、本征层、多量子阱层、p型层;缓冲层、高浓度n型层和本征层的外侧依次包裹着氧化物层和金属铝层,在高浓度n型层形成源电极,在p型层上设置着漏电极,栅电极与金属铝层相连。本发明的垂直栅极结构的发光晶体管,栅极区在晶体管侧面外围,形成的沟道均匀,本征层不会形成短沟道效应,耐压性能得到提高。 |
申请公布号 |
CN101299448A |
申请公布日期 |
2008.11.05 |
申请号 |
CN200810028918.1 |
申请日期 |
2008.06.20 |
申请人 |
华南师范大学 |
发明人 |
郭志友;高小奇;赵华雄;曾坤;孙慧卿;范广涵 |
分类号 |
H01L33/00(2006.01) |
主分类号 |
H01L33/00(2006.01) |
代理机构 |
广州粤高专利代理有限公司 |
代理人 |
何淑珍 |
主权项 |
1、一种垂直栅极结构的发光晶体管,其特征在于:在衬底(9)上依次生长着缓冲层(8)、高浓度n型层(7)、本征层(6)、多量子阱层(3)、p型层(2);在p型层(2)、多量子阱层(3)和本征层(6)的外侧开有第一凹口(15),第一凹口(15)上设置着与高浓度n型层(7)相连的源电极(11);缓冲层(8)、高浓度n型层(7)和本征层(6)的外侧依次包裹着第一氧化物层(4)和第一金属铝层(5),第一凹口(15)的外侧除外;在p型层(2)和多量子阱层(3)的侧边开有第二凹口(14),在第二凹口(14)上生长着第二氧化物层(41),第一氧化物层(4)与第二氧化物层(41)相连;第二氧化物层(41)上面生长着第二金属铝层(51),第一金属铝层(5)与第二金属铝层(51)相连;第二氧化物层(41)和第二金属铝层(51)与多量子阱层(3)不相连;在p型层(2)上设置着漏电极(1),在第二金属铝层(51)上设置着栅电极(12)。 |
地址 |
510630广东省广州市天河区石牌中山大道西55号 |