发明名称 |
沉积装置和沉积方法 |
摘要 |
提供用于制造具有多个功能区的有机化合物层的一种沉积装置。该沉积装置包括沉积室内的多个蒸发源,能连续形成包括有机化合物的相应的功能区,并且,进一步在功能区的相邻区之间的界面形成混合区。用具有这种制造室的沉积装置,可以防止功能区之间的杂质污染,并且进一步可以在界面形成缩短能隙的有机化合物层。 |
申请公布号 |
CN100430515C |
申请公布日期 |
2008.11.05 |
申请号 |
CN02103325.0 |
申请日期 |
2002.01.31 |
申请人 |
株式会社半导体能源研究所 |
发明人 |
山崎舜平;濑尾哲史;水上真由美 |
分类号 |
C23C14/12(2006.01);C23C14/24(2006.01);H01L51/40(2006.01);H01L33/00(2006.01);H05B33/10(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/12(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
吴立明;张志醒 |
主权项 |
1.一种制造发光器件的方法,该方法包括:在定线室内把金属掩蔽板的位置相对于衬底进行匹配;通过在沉积室内对来自第1蒸发源的第1有机化合物实施真空蒸发而在该衬底上形成第1功能区,所述第1功能区包括所述第1有机化合物;通过在所述沉积室内对分别来自所述第1蒸发源和来自第2蒸发源的所述第1有机化合物和第2有机化合物同时进行真空蒸发来形成第1混合区,该第1混合区包括所述第1有机化合物和所述第2有机化合物;通过在所述沉积室内对来自所述第2蒸发源,而不是来自所述第1蒸发源的所述第2有机化合物进行真空蒸发来形成第2功能区,该第2功能区包括所述第2有机化合物;通过在所述沉积室内对分别来自所述第2蒸发源和来自第3蒸发源而不是来自所述第1蒸发源的所述第2有机化合物和第3有机化合物同时实施真空蒸发来形成第2混合区,该第2混合区包括所述第2有机化合物和所述第3有机化合物;通过在所述沉积室内对来自第3蒸发源,但不是来自所述第1蒸发源和不是来自所述第2蒸发源的所述第3有机化合物实施真空蒸发来形成第3功能区,该第3功能区包括所述第3有机化合物;通过在清洗预备室内利用μ波将反应气体进行分离来产生自由基;和通过把所述自由基引入到所述定线室来对所述金属掩蔽板进行清洗。 |
地址 |
日本神奈川县 |