发明名称 | 静电放电保护元件结构 | ||
摘要 | 一种静电放电保护元件结构,此结构包括半导体基版/井、第一掺杂区、第二掺杂区以及第三掺杂区。第一掺杂区配置于半导体基版/井,并掺杂一第一掺质。第二掺杂区配置于半导体基版,掺杂一第二掺质,其中第二掺杂区与第一掺杂区相距一预定距离。第三掺杂区配置于第一掺杂区,并掺杂第二掺质。此结构可解决二极体的逆向恢复,并增加静电放电保护电路整体的保护效果。 | ||
申请公布号 | TW200843074 | 申请公布日期 | 2008.11.01 |
申请号 | TW096113625 | 申请日期 | 2007.04.18 |
申请人 | 华邦电子股份有限公司 | 发明人 | 曾仁洲 |
分类号 | H01L23/60(2006.01);H02H9/04(2006.01) | 主分类号 | H01L23/60(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区研新三路4号 |