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经营范围
发明名称
渗碳装置及渗碳方法
摘要
对物体进行真空渗碳处理之渗碳装置,其系具备有:收容前述物体之渗碳炉;供应渗碳气体给前述渗碳炉之气体供应装置;使用供应有前述渗碳气体之前述渗碳炉的内部之炉内气体来发光之发光装置;接收来自前述发光装置的光之受光装置;以及根据前述受光装置的受光结果,求取前述炉内气体的组成之处理装置。
申请公布号
TW200842205
申请公布日期
2008.11.01
申请号
TW097106027
申请日期
2008.02.21
申请人
IHI股份有限公司
发明人
中井宏;中林贵
分类号
C23C8/22(2006.01)
主分类号
C23C8/22(2006.01)
代理机构
代理人
洪武雄;陈昭诚
主权项
地址
日本
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