改善临界尺寸均匀度的显影方法

摘要

本发明系揭露一种改善临界尺寸均匀度的显影方法，其利用于现有的机台设备，在现有的显影过程步骤中的单向混拌过程变更为交替方向混拌过程，藉此在无增加机台等额外的设备成本的前提下，增加显影液与已曝光光阻层的接触程度，以大幅度提高曝光的精确度，改善显影时临界尺度的均匀性，使符合现今微小化的制程尺度。