曝光设备、制造系统及装置制造方法

摘要

本发明的曝光设备包括：曝光单元，系组构成对每一个拍摄区使涂着于基底上的光阻受光曝照，以便将光罩的图案转印至光阻；以及，控制器，系组构成根据每一个拍摄区的微影时程以取得用于每一个拍摄区的光剂量，以及，致使曝光单元根据所取得的光剂量而使每一个拍摄区曝光。