雷射生成式电浆超紫外线（ＥＵＶ）光源

摘要

揭露一种装置，其能够包含一在一电浆场产生一电浆之系统，该电浆产生超紫外线(EUV)辐射，以及离开该电浆之离子。该装置亦能够包括一光学仪器，例如一多层镜片，其与该电浆场相隔一段距离d、以及一流动气体，其配置于电浆与光学仪器之间，该气体建立一气体压力，该压力足以越过该距离d运作，以便在离子到达光学仪器之前将离子能量降低到一预先选定值。在一实施例中，该气体能够包含氢气，且在一特定实施例中，该气体能够包含体积百分比大于百分之50的氢气。