发明名称 研磨头及研磨装置
摘要 本发明系一种研磨头,具备:一环状刚性环;一橡胶环,以均匀的张力接着于该刚性环;一中板,结合于上述刚性环,与上述橡胶膜、上述刚性环一起形成一空间部;以及一环状的模板,其外径大于上述刚性环的内径,与上述刚性环同心地设置于上述橡胶膜的底面部的周边部;能以压力调整机构改变上述空间部的压力,工作件的背面保持于上述橡胶膜的底面部,该工作件的表面滑动接触于已贴附于平台上的研磨布来进行研磨,其特征在于:上述模板的内径小于上述刚性环的内径,该刚性环与模板之间的内径差、和上述模板的内径与外径之间的差的比,为26%以上45%以下。藉此,能提供一种研磨头,可安定地获得一定的平坦性。
申请公布号 TW200841990 申请公布日期 2008.11.01
申请号 TW096139926 申请日期 2007.10.24
申请人 信越半导体股份有限公司;不二越机械工业股份有限公司 发明人 村寿;北川幸司;森田幸治;岸田敬实;荒川悟
分类号 B24B37/04(2006.01);B24B57/02(2006.01);H01L21/304(2006.01) 主分类号 B24B37/04(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财;李世章
主权项
地址 日本