| 摘要 |
一种信赖性高之薄膜电晶体的制作方法，包含下列步骤：(a)于一透光性基材之一第一表面上形成一由非晶矽所构成之主动层；(b)形成一闸极介电层以覆盖该主动层；(c)于该闸极介电层上形成一与该主动层对应设置之闸极层；(d)对该主动层施予离子布值以于该主动层定义出一源极区及一汲极区；(e)形成一保护层以覆盖该闸极层与闸极介电层；(f)利用微影蚀刻与薄膜制程以形成复数分别连通该源极区、汲极区与闸极层的接点插塞；及(g)自该透光性基材之一相反于该第一表面的第二表面施予雷射照射，以对该主动层进行结晶化并对该源极区与汲极区完成载子活化。 |
