发明名称 曝光设备及装置制造方法
摘要 一种曝光设备包含:一载台,配置成保持一原片于其上,并沿水平方向移动;一第1干涉仪,配置成发出用来测量载台于一垂直方向之一位置之第1测量光;一第1镜,设在载台之一底面上;以及一第2镜,直接设在第1镜下方。第2镜配置成将自第1干涉仪发出之第1测量光导至第1镜。
申请公布号 TW200842502 申请公布日期 2008.11.01
申请号 TW096146284 申请日期 2007.12.05
申请人 佳能股份有限公司 发明人 田中英雄
分类号 G03F7/20(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本