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经营范围
发明名称
曝光设备及装置制造方法
摘要
一种曝光设备包含:一载台,配置成保持一原片于其上,并沿水平方向移动;一第1干涉仪,配置成发出用来测量载台于一垂直方向之一位置之第1测量光;一第1镜,设在载台之一底面上;以及一第2镜,直接设在第1镜下方。第2镜配置成将自第1干涉仪发出之第1测量光导至第1镜。
申请公布号
TW200842502
申请公布日期
2008.11.01
申请号
TW096146284
申请日期
2007.12.05
申请人
佳能股份有限公司
发明人
田中英雄
分类号
G03F7/20(2006.01)
主分类号
G03F7/20(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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