发明名称 | 光刻胶剥离液 | ||
摘要 | 本发明公开一种制备方法简单、成本低、对衬底材料及金属配线腐蚀率低、对环境无污染的光刻胶灰化残留物清洗剂。其原料及重量百分比如下:表面活性剂1%~15%、有机胺5%~40%、有机溶剂5%~30%、螯合剂0.1%~5%、缓蚀剂0.01%~5%、纯水余量。 | ||
申请公布号 | CN101295144A | 申请公布日期 | 2008.10.29 |
申请号 | CN200810011907.2 | 申请日期 | 2008.06.19 |
申请人 | 大连三达奥克化学股份有限公司 | 发明人 | 侯军;吕冬 |
分类号 | G03F7/42(2006.01) | 主分类号 | G03F7/42(2006.01) |
代理机构 | 大连非凡专利事务所 | 代理人 | 闪红霞 |
主权项 | 1.一种光刻胶剥离液,其特征在于含有原料及重量百分比如下:表面活性剂 1%~15%有机胺 5%~40%有机溶剂 5%~30%螯合剂 0.1%~5%缓蚀剂 0.01%~5%纯水 余量 | ||
地址 | 116023辽宁省大连市高新园区学子街99号 |