| 发明名称 | 同轴喷淋式喷头及其应用 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种同轴排列喷淋式喷头及其应用，用于化学气相沉积和有机金属化学气相沉积方法制备薄膜的工艺过程中，将所需反应气体或等离子体通过本发明设计的双通道或多通道同轴喷淋头喷出成膜。该同轴喷淋式喷头设有进气通道以及同轴管，同轴的管道分别与对应的进气通道连通。本发明解决化学气相沉积中，两种气体难于实现充分的混合，以及进气通道过于密集、加工制作困难等问题。本发明适用于通过两种气相反应物来生长薄膜(或纳米结构)的化学气相沉积工艺，可以生长的材料包括SiO<SUB>2</SUB>，GaN和ZnO等。同时，本发明也致力于实现通过喷淋头喷射三种或更多反应气体或等离子体以用于大面积均匀薄膜沉积。 | ||
| 申请公布号 | CN101294275A | 申请公布日期 | 2008.10.29 |
| 申请号 | CN200710158823.7 | 申请日期 | 2007.12.12 |
| 申请人 | 孙小卫;刘立宁 | 发明人 | 孙小卫;刘立宁 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01);C23C16/30(2006.01);B05B1/14(2006.01);B05B7/04(2006.01) | 主分类号 | C23C16/44(2006.01) |
| 代理机构 | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人 | 张志伟 |
| 主权项 | 1、一种同轴喷淋式喷头，其特征在于：该同轴喷淋式喷头设有进气通道以及同轴管，同轴的管道分别与对应的进气通道连通。 | ||
| 地址 | 056002河北省邯郸市丛台区朝阳路矿建设计院5楼4门2号 | ||