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发明名称 POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
摘要
申请公布号 EP1452919(A4) 申请公布日期 2008.10.29
申请号 EP20020788697 申请日期 2002.11.29
申请人 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 发明人 HADA, HIDEO;FUJIMURA, SATOSHI;IWASHITA, JUN
分类号 C08F220/18;C08F220/28;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/039 主分类号 C08F220/18
代理机构 代理人
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