| 发明名称 | 用于在容器上等离子体沉积阻挡层的冷却装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于在容器(2)的内壁上等离子体沉积薄层阻挡材料的装置(1)，该装置(1)包括：电磁波发生器(3)；腔(5)，其与所述发生器(3)连接且由导电材料制成；以及室(6)，其定位在所述腔(5)内且由能够被来自所述发生器(3)的电磁波透过的材料制成。该装置(1)的特征在于，其包括用于冷却所述室(6)的机构(14，15；16)。 | ||
| 申请公布号 | CN101297065A | 申请公布日期 | 2008.10.29 |
| 申请号 | CN200680039750.3 | 申请日期 | 2006.10.23 |
| 申请人 | 赛德尔参与公司 | 发明人 | 让－米歇尔·里于 |
| 分类号 | C23C16/513(2006.01);C23C16/04(2006.01);C23C4/00(2006.01);B65D23/02(2006.01);B05D7/22(2006.01) | 主分类号 | C23C16/513(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 | 代理人 | 楼仙英;邵桂礼 |
| 主权项 | 1.一种用于在容器(2)的内壁上等离子体沉积薄层阻挡材料的装置(1)，所述装置(1)包括：电磁波发生器(3)；腔(5)，其与所述发生器(3)连接且由导电材料制成；以及室(6)，其定位在所述腔(5)内且由能够被来自所述发生器(3)的电磁波透过的材料制成；所述装置(1)的特征在于，其包括用于冷却所述室(6)的机构(14，15；16)。 | ||
| 地址 | 法国奥克特维尔 | ||