陶瓷靶，由氧化锌、镓和硼构成的薄膜以及该薄膜的制备方法

摘要

本发明涉及光电子技术领域并且用于制备透明传导层。更具体地，本发明涉及制备陶瓷材料的领域并且用于制备陶瓷靶，该陶瓷靶在微电子、光电子、纳电子中通过磁控、电子束、离子束和其它薄膜施用方法的薄膜施用方法中充当材料源，并且涉及由这种陶瓷靶生产的薄膜，以及所述薄膜的制备方法。公开了基于掺杂镓的氧化锌的陶瓷靶，该陶瓷靶含有0.5至6原子％镓和0.1至2原子％硼，一部分镓和硼作为取代掺合物包含在氧化锌微晶中，而剩余部分的镓和硼与锌一起包含在非晶态的晶粒间相中。还提出了基于掺杂镓且择优取向为(001)的氧化锌的多晶薄膜，在该薄膜的结构中0.1至2％锌原子被硼原子取代，0.5至6％锌原子被镓原子取代，并且提出了该薄膜的制备方法。

主权项

1.基于掺杂镓的氧化锌的陶瓷靶，其特征在于所述陶瓷靶含有0.5至6原子％的镓和0.1至2原子％的硼，一部分镓和硼作为取代掺合物包含在氧化锌微晶中，而剩余部分的镓和硼与锌一起包含在非晶态的晶界相中。