| 发明名称 | 抛光装置和衬底处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种抛光装置，所述抛光装置用于消除衬底的外围部分处产生的表面粗糙度，或者用于去除形成于衬底的外围部分上的膜。所述抛光装置包括：外壳(3)，其用于在其中形成抛光室(2)；旋转台(1)，其用于保持和旋转衬底(W)；抛光带供应机构(6)，其用于将抛光带(5)供应到抛光室(2)中并且收回已经供应至抛光室(2)的抛光带(5)；抛光头(35)，其用于将抛光带(5)压在衬底(W)的倾斜部分上；液体供应装置(50)，其用于将液体供应至衬底(W)的前表面和后表面上；以及调节机构(16)，其用于使抛光室(2)的内部压力被设置为低于抛光室(2)的外部压力。 | ||
| 申请公布号 | CN100429752C | 申请公布日期 | 2008.10.29 |
| 申请号 | CN200580003567.3 | 申请日期 | 2005.02.23 |
| 申请人 | 株式会社荏原制作所 | 发明人 | 本乡明久;伊藤贤也;山口健二;中西正行 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01);B24B9/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/304(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 王英 |
| 主权项 | 1、一种抛光装置，包括：外壳，该外壳用于在其中形成抛光室；旋转台，其用于保持和旋转衬底，所述旋转台设置在所述抛光室内部；抛光带供应机构，其用于将抛光带供应至所述抛光室并且收回已经供应至所述抛光室的所述抛光带；抛光头，其用于将所述抛光带压在该衬底的倾斜部分上；液体供应装置，其用于将液体供应至该衬底的前表面和后表面上；以及调节机构，其用于使所述抛光室的内部压力被设置为低于所述抛光室的外部压力；其中，所述抛光带供应机构设置在所述抛光室外部。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||