发明名称 光刻胶组合物和使用其制造薄膜晶体管基底的方法
摘要 本发明涉及光刻胶组合物和使用其制造薄膜晶体管基底的方法。在一实例中,光刻胶组合物包括约1到约70重量份的含有由右面化学式1代表的重复单元的第一粘合剂树脂、约1到约70重量份的含有由右面化学式2代表的重复单元的第二粘合剂树脂、约0.5到约10重量份的光致产酸剂、约1到约20重量份的交联剂和约10到约200重量份的溶剂,在式中R<SUB>1</SUB>和R<SUB>2</SUB>独立地代表具有1到5个碳原子的烷基,n和m独立地代表自然数。该光刻胶组合物可改善光刻胶图案的耐热性和粘附能力。
申请公布号 CN101295135A 申请公布日期 2008.10.29
申请号 CN200810127707.3 申请日期 2008.04.14
申请人 三星电子株式会社;东进瑟弥侃株式会社 发明人 朴廷敏;郑斗喜;李羲国;尹赫敏;丘冀赫
分类号 G03F7/021(2006.01);G03F7/004(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/84(2006.01) 主分类号 G03F7/021(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 宋莉
主权项 1.一种光刻胶组合物,包括1到70重量份的包括由下式表示的重复单元的第一粘合剂树脂;1到70重量份的包括由下式表示的重复单元的第二粘合剂树脂;其中R1和R2独立地代表具有1到5个碳原子的烷基,n和m独立地代表自然数;0.5到10重量份的光致产酸剂;1到20重量份的交联剂;和10到200重量份的溶剂。
地址 韩国京畿道