发明名称 曝光装置及其控制方法、及装置的制造方法
摘要 本文提供一种能以简单配置有效率地更换光罩的曝光装置。在更换光罩时,一 (3)移动至一预定的更换作业位置处。在此时,一第二磁铁(9)退缩至一个由一第一磁铁(8)与该第二磁铁(9)所产生之推斥力量不会作用于该 (3)上的位置处。在光罩更换之后,该第二磁铁(9)即回复至一个一推斥力量产生单元可施加一推斥力量至该 (3)上的位置处。
申请公布号 TW200841131 申请公布日期 2008.10.16
申请号 TW096145931 申请日期 2007.12.03
申请人 佳能股份有限公司 发明人 西村光夫
分类号 G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本