发明名称 Carbonization of metal caps
摘要 An integrated circuit structure includes a semiconductor substrate; a dielectric layer over the semiconductor substrate; a conductive wiring in the dielectric layer; and a metal carbide cap layer over the conductive wiring.
申请公布号 US2008251928(A1) 申请公布日期 2008.10.16
申请号 US20070786367 申请日期 2007.04.11
申请人 CHANG HUI-LIN;SHEN TING-YU;LU YUNG-CHENG 发明人 CHANG HUI-LIN;SHEN TING-YU;LU YUNG-CHENG
分类号 H01L23/532;H01L21/768 主分类号 H01L23/532
代理机构 代理人
主权项
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