METHOD AND DEVICE FOR IMAGING A PROGRAMMABLE MASK ON A SUBSTRATE

摘要

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Abbilden eines mittels einer programmierbaren Maske (1) erzeugten Musters auf einem Substrat (2), welches eine photoempfindliche Schicht aufweist, wobei mittels der Beleuchtungseinheit auf der Maske (1) Beleuchtungsflecken (3) erzeugt werden und über eine optische Einheit (6) dem Muster entsprechende Einzelabbildungen (4) auf dem Substrat (2) erzeugt werden. Ferner bezieht sich die Erfindung auf eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens und die Verwendung einer solchen Vorrichtung. Das Verfahren, die Vorrichtung und deren Verwendung sollen dahingehend ausgestaltet werden, dass eine verbesserte Auflösung und ein hoher Durchsatz erreicht werden, wobei vor allem die Positionierung von auf dem Substrat abzubildenden Strukturkanten optimiert werden sollen. Hierzu wird vorgeschlagen, dass wenigstens zwei Belichtungsvorgänge der photoempfindlichen Schicht durchgeführt werden, deren Beleuchtungsflecke (3) oder Belichtungspunkte gegeneinander versetzt vorgegeben werden, und dass das Belichtungsraster bei gleicher Anzahl von Beleuchtungsflecken oder Belichtungspunkten (3) gestreckt wird und ferner im gleichen Verhältnis die Anzahl der Belichtungsvorgänge erhöht wird.