发明名称 |
Verfahren zum Bestimmen der Fokuslage von mindestens zwei Kanten von Strukturen auf einem Substrat |
摘要 |
Es ist ein Verfahren zum Bestimmen der Fokuslage von mindestens zwei Kanten von Strukturen (31) auf einem Substrat (30) offenbart. Während der Bewegung eines Messobjektivs (21) in Z-Koordinatenrichtung wird eine Vielzahl von Bildern der mindestens einen Struktur (31) mit mindestens einem Messfenster (45) eines Detektors aufgenommen. Für jedes Bild wird ein Intensitätsprofil der Struktur (31) ermittelt. |
申请公布号 |
DE102007017649(A1) |
申请公布日期 |
2008.10.16 |
申请号 |
DE20071017649 |
申请日期 |
2007.04.12 |
申请人 |
VISTEC SEMICONDUCTOR SYSTEMS GMBH |
发明人 |
BOESSER, HANS-ARTUR;FRICKE, WOLFGANG;ADAM, KLAUS-DIETER |
分类号 |
G01B11/24;G01B11/03;G01B11/14;G02B7/04;G03F7/207;G03F9/02 |
主分类号 |
G01B11/24 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|