发明名称 Verfahren zum Bestimmen der Fokuslage von mindestens zwei Kanten von Strukturen auf einem Substrat
摘要 Es ist ein Verfahren zum Bestimmen der Fokuslage von mindestens zwei Kanten von Strukturen (31) auf einem Substrat (30) offenbart. Während der Bewegung eines Messobjektivs (21) in Z-Koordinatenrichtung wird eine Vielzahl von Bildern der mindestens einen Struktur (31) mit mindestens einem Messfenster (45) eines Detektors aufgenommen. Für jedes Bild wird ein Intensitätsprofil der Struktur (31) ermittelt.
申请公布号 DE102007017649(A1) 申请公布日期 2008.10.16
申请号 DE20071017649 申请日期 2007.04.12
申请人 VISTEC SEMICONDUCTOR SYSTEMS GMBH 发明人 BOESSER, HANS-ARTUR;FRICKE, WOLFGANG;ADAM, KLAUS-DIETER
分类号 G01B11/24;G01B11/03;G01B11/14;G02B7/04;G03F7/207;G03F9/02 主分类号 G01B11/24
代理机构 代理人
主权项
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