发明名称 |
处理装置用的多变量解析方法、处理装置的控制装置、处理装置的控制系统 |
摘要 |
在本发明中,对于作为基准的等离子体体处理装置100A和与之同种类的等离子体处理装置100B,分别对利用第一设定数据进行动作时由各自的多个传感器检测的检测数据进行多变量解析,作成多变量解析模型式后,使用利用新的第二设定数据进行动作时由等离子体处理装置100A的多个传感器检测的检测数据,作成多变量解析模型式,使用该新的第二设定数据的等离子体处理装置100A的多变量解析模型式和等离子体处理装置100B的多变量解析模型式,作成与新的第二设定数据相对应的等离子体处理装置100B的多变量解析模型式。由此,即使在每个处理装置中存在处理特性差异时,也可以将对于一个处理装置而作成的模型式直接用在同种类的其它处理装置中,不需要对每个处理装置都取各种测定数据作成相应模型式。由此,可减轻模型式作成时的手续和时间。 |
申请公布号 |
CN100426471C |
申请公布日期 |
2008.10.15 |
申请号 |
CN03813082.3 |
申请日期 |
2003.06.05 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
友安昌幸;王斌;田中秀树 |
分类号 |
H01L21/3065(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/3065(2006.01) |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
龙淳;邸万杰 |
主权项 |
1.一种处理装置用的多变量解析方法,它是利用多变量解析评价处理装置的装置状态或预测处理结果时的多变量解析方法,其特征在于:包括下述工序:第一工序,利用多变量解析对于各处理装置中的每一个求出在多个处理装置中分别根据第一设定数据进行动作时由所述各处理装置的多个传感器检测的检测数据和所述第一设定数据的相关关系;第二工序,当以所述各处理装置之中的一个作为基准处理装置时,利用多变量解析,求出在该基准处理装置中根据新的第二设定数据进行动作时由所述基准处理装置的多个传感器检测的检测数据和所述第二设定数据的相关关系;和第三工序,根据所述第一工序中求出的所述其它处理装置中的相关关系、所述第一工序中求出的所述基准处理装置中的相关关系和所述第二工序中求出的所述基准处理装置中的所述相关关系,求出所述基准处理装置以外的其它处理装置中的所述第二设定数据和检测数据的相关关系,根据这样求出的相关关系,作出评价所述其它处理装置的装置状态或预测处理结果的多变量解析模型式。 |
地址 |
日本国东京都 |