| 发明名称 | 投影曝光装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种在基板上形成预定图案的投影曝光装置。用于在基板上形成图案的该投影曝光装置包括：掩模台，该掩模台用于保持其上具有预定图案的光掩模；光源，该光源用于发射包含包括g线、h线、i线及j线在内的光谱线的光线；波长选择器，该波长选择器用于从所述光源发射的光线中选择包含预定光谱线的光线；照明光学系统，该照明光学系统用于用所选光线照射所述光掩模；Offner式投影系统，该Offner式投影系统用于将穿过所述光掩模的光投影至所述基板上；基板台，该基板台包括用于保持所述基板的真空部，该基板台用于定位所述基板；以及遮光体，该遮光体用于部分地阻挡照射到所述基板上的光。 | ||
| 申请公布号 | CN101286012A | 申请公布日期 | 2008.10.15 |
| 申请号 | CN200810086963.2 | 申请日期 | 2008.03.28 |
| 申请人 | 株式会社ORC制作所 | 发明人 | 佐藤仁;山贺胜;中泽朗;工藤巧裁;中本裕见 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);G03F9/00(2006.01);G03B27/32(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 党晓林 |
| 主权项 | 1.一种用于在基板上形成图案的投影曝光装置，该投影曝光装置包括：掩模台，该掩模台用于保持其上具有预定图案的光掩模；光源，该光源用于发射包含包括g线、h线、i线及j线在内的多条光谱线的光线；波长选择器，该波长选择器用于从所述光源发射的光线中选择包含一条以上预定光谱线的光线；照明光学系统，该照明光学系统用于用所选光线照射所述光掩模；Offner式投影系统，该Offner式投影系统用于将穿过所述光掩模的光线投影至所述基板上；基板台，该基板台包括用于保持所述基板的真空部，该基板台用于定位所述基板；以及遮光体，该遮光体用于部分地阻挡照射到所述基板上的光。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||