发明名称 图案形成方法、装置及半导体器件、电路、显示体模件和发光元件
摘要 图案材料供给部(300),具备有使液态图案材料(312)成为雾状微粒子进行喷雾的莲喷头(310)。在莲喷头(310)的下方,设有配置工件(20)的处理台(318)。在工件(20)的表面具有设有图案形成用开口进行了疏水处理的掩膜。工件(20),通过处理台(318)由直流电源(328)外加电压,利用静电引力吸引液态图案材料(312)的微粒子。处理台(318),通过旋转,使附着在掩膜表面的液态图案材料填充到设在掩膜上的图案形成用开口部,同时能由内置的加热器(326)加热固化液态图案材料。
申请公布号 CN100426455C 申请公布日期 2008.10.15
申请号 CN200610084424.6 申请日期 2001.12.21
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 森义明;宫川拓也;高木宪一;足助慎太郎;佐藤充
分类号 H01L21/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 H01L21/00(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 浦柏明;刘宗杰
主权项 1.一种图案形成装置,其特征在于,具有:在涂敷于工件表面并固化了的掩膜材料上,设置用于形成图案的开口部来作为掩膜的掩膜形成部;在上述已经固化了的掩膜材料或上述掩膜中形成由聚合膜构成的疏水膜的疏水处理部;向上述掩膜的用于形成图案的开口部供给液态图案材料的图案材料供给部;以及固化上述用于形成图案的开口部内的上述液态图案材料的固化部,其中,上述疏水处理部具有:使氟化物等离子体化,并使氟树脂膜聚合在上述已经固化了的掩膜材料或上述掩膜表面的聚合装置。
地址 日本东京都