多层体及其制造方法

摘要

本发明描述多层体(1)、特别是一转印薄膜，包括一复制层和一在复制层上设置的金属层，其具有大量显微的细小的图案区域(14m)和一完全包围每个图案区域(14m)的背景区域(14d)，其中各图案区域(14m)设置在一具有光栅宽度D的光栅(14r)中并且各图案区域分别通过背景区域以彼此间距B彼此分离地设置。还描述一种用于这样的多层体的制造方法。

主权项

1.用于制造一具有可调的或确定的导电率的多层体的方法，其特征在于，在多层体的一复制层(12，52a，52b，82)的第一区域内成形一衍射的第一表面结构，在该第一区域内和一第二区域内将一金属层(14，24，34，64，84)涂覆到复制层(12，52a，52b，82)上，在该第二区域未在复制层(12，52a，52b，82)上成形第一表面结构，其中或第一区域或第二区域由大量显微的细小的图案区域构成，所述图案区域设置在一线光栅中或一具有光栅宽度D的面光栅中并且分别通过完全限定或包围每个分区域的第二区域或第一区域以一彼此间距B彼此分离地设置，在金属层(14，24，34，64，84)上涂覆一感光层(88)或作为复制层涂覆一感光的洗涤掩膜，感光层(88)或洗涤掩膜穿过金属层(14，24，34，64，84)曝光，从而感光层(88)或洗涤掩膜由第一表面结构决定地在第一和第二区域内不同地曝光，并且在应用曝光的感光层(88)或作为掩膜层的洗涤掩膜的情况下在第一区域内但不在第二区域内去除金属层(12，24，34，64，84)，或在第二区域内但不在第一区域去除金属层(12，24，34，64，84)。