发明名称 超薄硅基粒子探测器及其制备方法
摘要 本发明公开了一种超薄硅基粒子探测器及其制备方法。本发明探测器包括硅基片,硅基片上的探测窗口以及硅基片和探测窗口之外的介质层;所述探测窗口包括P区,N区以及夹在两者之间的硅层;所述P区周围设有保护环,保护环和P区不相接触;P区上方还设有基质层形成的缓冲台阶;N区优选通过TMAH腐蚀法形成,其外形呈倒圆台状,侧面和底面的夹角为54.74°;P区和N区表层均设有铝层。本发明还公开了所述探测器的制备方法。本发明探测器可很好地作为粒子鉴别的ΔE探测器应用于空间探测,核物理,医学检测和环境监测等领域。
申请公布号 CN101286536A 申请公布日期 2008.10.15
申请号 CN200810105938.4 申请日期 2008.05.06
申请人 北京大学 发明人 李科佳;王金延;田大宇;张录;张太平;金玉丰
分类号 H01L31/115(2006.01);H01L31/18(2006.01) 主分类号 H01L31/115(2006.01)
代理机构 北京君尚知识产权代理事务所 代理人 余长江
主权项 1.一种超薄硅基粒子探测器,包括硅基片,所述硅基片上的探测窗口以及硅基片和探测窗口之外的介质层,所述探测窗口包括P区,N区以及夹在两者之间的硅层,其特征在于,所述P区周围设有保护环,所述保护环和所述P区不相接触;所述P区上方设有基质层形成的缓冲台阶;所述P区和所述N区表层均设有铝层。
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