在193纳米辐射波长具有低折射率的顶部抗反射涂料组合物

摘要

已发现一种组合物，其特征是存在具有芳族残基、且对193纳米辐射波长的折射率值n小于1.5的可溶于碱性水溶液的聚合物，其尤其可用作193纳米干式光刻法中的顶部抗反射涂层。已发现，具有烯式骨架并具有氟和磺酸残基的聚合物尤其有用。该组合物能够利用它们在碱性显影剂水溶液中的可溶性而在提供易用性的同时实现在193纳米的顶部反射控制。

主权项

1.适合用作193纳米光刻法所用的顶部抗反射涂层的组合物，所述组合物包含具有芳族残基、且对193纳米辐射波长的折射率值n小于1.5的可溶于碱性水溶液的聚合物。