衬底处理设备和衬底处理方法

摘要

一种衬底处理设备，其在部分地形成于腔室中的化学溶液处理室中进行化学溶液处理。在该化学溶液处理的过程中，该衬底处理设备密封该化学溶液处理室，测量该化学溶液处理室中的压力，并且根据测量值控制化学溶液处理室中的压力。无论该衬底处理设备所处的大气压如何，该化学溶液处理室能够受控至预定的压力。该衬底处理设备还允许对最小需求量的区域进行有效的压力控制。

主权项

1.一种衬底处理设备，其对衬底进行预定处理，所述衬底处理设备包括：a)腔室，其具有第一处理室和第二处理室；b)分隔构件，其将所述腔室分隔成所述第一处理室和所述第二处理室；c)处理部，其使用所述第一处理室中的化学溶液处理所述衬底；d)测量部，其测量所述第一处理室中的压力；以及e)压力调节部，其根据所述测量部的测量结果调节所述第一处理室中的压力，其中：所述压力调节部包括：e-1)气体供应部，其向所述第一处理室中供应气体；e-2)气体排放部，其排放所述第一处理室中的气体；以及e-3)控制器，其控制所述气体供应部和所述气体排放部的至少其中之一的气流，所述处理部包括：c-1)处理池，其储存化学溶液，并且所述处理池设置于所述第一处理室中；以及c-2)固持部，其将所述衬底固持并浸入储存在所述处理池中的化学溶液中，所述第一处理室和所述第二处理室在所述腔室的竖直方向上上下排列，以及所述第二处理室设有多个去离子水排出部，去离子水通过所述去离子水排出部供至所述衬底。