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发明名称 VERFAHREN ZUR BILDUNG EINER PHOSPHORDOTIERTEN SILICIUMDIOXIDSCHICHT
摘要
申请公布号 AT408720(T) 申请公布日期 2008.10.15
申请号 AT20040777377T 申请日期 2004.06.30
申请人 MICRON TECHNOLOGY, INC. 发明人 VAARTSTRA, BRIAN
分类号 C23C16/40;C23C16/04;C23C16/44;C23C16/455;H01L21/316;H01L21/762 主分类号 C23C16/40
代理机构 代理人
主权项
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