| 摘要 |
<p>Полезная модель направлена на расширение технологических возможностей установки, повышение производительности и качества обработки изделий. Указанный технический результат достигается тем, что вакуумная, ионно-плазменная установка содержит вакуумную камеру с расположенными в ней катодами электродуговых испарителей, источники питания вакуумно-дугового разряда, источник питания двухступенчатого вакуумно-дугового разряда, держатель изделий и оптически непрозрачный поворотный экран, расположенный между катодом электродугового испарителя и держателем изделий. Кроме того, установка содержит, по крайней мере, одно устройство для ионной имплантации, выполненное в виде источника питания потенциала смещения, причем, по крайней мере, один из катодов электродуговых испарителей в виде пластины длиной от 500 до 2000 мм, шириной от 50 до 300 мм и толщиной от 10 до 70 мм. Кроме того, в вакуумной камере расположен дополнительный электрод, выполненный с возможностью подключения к положительному полюсу источника питания двухступенчатого вакуумно-дугового разряда. Вакуумная камера представляет собой полый цилиндра вращения, размеры которого могут быть: высота от 800 до 2500 мм и внутренний диаметр от 500 до 1200 мм. Установка предусматривает присоединение дополнительных секций вакуумной камеры. 5 з.п.ф., 3 илл.</p> |
