发明名称 Lithografische Vorrichtung, Kontaminantfalle und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
摘要
申请公布号 DE602006002439(D1) 申请公布日期 2008.10.09
申请号 DE200660002439T 申请日期 2006.07.05
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 SJMAENOK, LEONID AIZIKOVITCH;SMITS, JOSEPHUS JACOBUS;BANINE, VADIM YEVGENYEVICH;VAN DEN WILDENBERG, LAMBERTUS ADRIANUS;SCHMIDT, ALEXANDER ALEXANDROVITCH;WASSINK, ARNOUD CORNELIS;BROM, PAUL PETER ANNA ANTONIUS;VERPALEN, ERIC LOUIS WILLEM;VAN DE PAS, ANTONIUS JOHANNES
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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