发明名称 PROCEDE DE DETECTION DE DEFAUTS DE SURFACE D'UN SUBSTRAT ET DISPOSITIF METTANT EN OEUVRE LEDIT PROCEDE.
摘要 La présente invention concerne un procédé de détection de défauts de surface, tels que les défauts de type « lignes de glissement », sur un substrat (2) destiné à être utilisé en électronique, optoélectronique ou analogue, remarquable en ce qu'il comporte au moins les étapes suivantes de :- projection sur le substrat (2) d'une mire constituée d'une alternance de franges de lumière et de bandes sombres, de manière à générer des franges réfléchies par la surface du substrat (2),- déplacement relatif de la mire et du substrat (2) suivant au moins une direction, de manière à déplacer les franges de la mire sur le substrat (2),- acquisition, par un capteur (8), d'une séquence d'au moins trois images de la mire réfléchie par le substrat (2), les images correspondant au déplacement des franges de la mire,- détermination de la pente de la surface du substrat (2) à partir des déplacements des franges de la mire, et- détermination de la présence d'un défaut de surface sur le substrat (2) à partir des variations de la pente de la surface du substrat (2).Un autre objet de l'invention concerne un dispositif mettant en oeuvre ledit procédé.
申请公布号 FR2914422(A1) 申请公布日期 2008.10.03
申请号 FR20070054088 申请日期 2007.03.28
申请人 S.O.I.TEC SILICON ON INSULATOR TECHNOLOGIES SOCIETE ANONYME;ALTATECH SEMICONDUCTOR 发明人 MOULIN CECILE;MORITZ SOPHIE;GASTALDO PHILIPPE;BERGER FRANCOIS;DELCARI JEAN LUC;BELIN PATRICE
分类号 G01N21/88;G01B11/25;H01L21/66 主分类号 G01N21/88
代理机构 代理人
主权项
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