╳唑类衍生物以及含彼之选择性除草剂

摘要

下式Ⅰ所示之唑类衍生物□ (Ⅰ)式中，Ａ示Ｃ1－Ｃ4烷基，Ｃ2－Ｃ4烯基或Ｃ2－Ｃ4炔基；Ｂ示氢，Ｃ1－Ｃ3烷基，卤素，Ｃ1－Ｃ3卤烷基，Ｃ1－Ｃ3烷氧基，Ｃ1－Ｃ3烷硫基，Ｃ2－Ｃ4烷氧烷基，Ｃ2－Ｃ4烷硫烷基或Ｃ2－Ｃ4烷氧羰基；Ｘ示Ｃ1－Ｃ6烷基，Ｃ1－Ｃ6烷氧基，卤素，硝基，氰基等；Ｙ示－ＯＲ'（式中Ｒ'示Ｃ3－Ｃ8环烷基，等），－Ｏ－Ｌ－Ｏ－Ｒ'（式中，Ｌ示Ｃ1－Ｃ6次烷基而可被Ｃ1－Ｃ3烷基所取代者），－Ｏ－Ｌ－ＯＨ，－Ｏ－Ｌ－Ｏ－Ｌ－Ｏ－Ｒ2（式中，Ｒ2示氢，Ｃ1－Ｃ6烷基等），－Ｏ－Ｌ－Ｒ3（式中，Ｒ3示苯基而可被Ｃ1－Ｃ3烷基所取代者），－Ｏ－Ｍ（式中，Ｍ示一种３－至６－节脂环族基团），－Ｏ－Ｌ－Ｍ，－Ｏ－Ｌ－ＮＲ4Ｒ5（式中Ｒ4及Ｒ5各示氢或Ｃ1－Ｃ6烷基，或Ｒ4及Ｒ5与其相邻之氮原子合示一环），－Ｏ－Ｌ－ＣＯＯＲ4，－Ｏ－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯＲ4，－Ｏ－Ｌ－ＣＮ，－Ｏ－Ｌ－Ｃ（Ｏ）－Ｒ2，－Ｏ－Ｌ－Ｓ（Ｏ）－Ｒ4（式中，ｎ示由０至２之一整数），－Ｏ－ＣＯＯＲ4，－Ｏ－ＣＯＮＲ4Ｒ5，－ＯＰ（Ｏ）（ＯＲ4）2，－Ｓ（Ｏ）nＲ2，或－Ｓ（Ｏ）n－Ｌ－Ｏ－Ｒ'；Ｚ示卤素，硝基，Ｃ1－Ｃ3烷氧基，等；Ｖ示氢，卤素，Ｃ1－Ｃ4烷基或Ｃ1－Ｃ4烷氧基；Ｗ示氢，卤素，Ｃ1－Ｃ4烷基，等；Ｑ示氢，Ｃ1－Ｃ6烷基而可被卤素……所取代者，－Ｃ（Ｏ）－Ｒ7（式中，Ｒ7示可被取代之苯基），－Ｓ（Ｏ）2Ｒ7，－Ｐ（Ｏ）（ＯＲ7）2，－Ｌ－Ｃ（Ｏ）－Ｒ7，－Ｌ－Ｃ（Ｏ）－Ｎ（Ｒ8）（Ｒ9）（式中，Ｒ8及Ｒ9各示氢或Ｃ1－Ｃ6烷基），－Ｌ－Ｒ10（式中，Ｒ10示可被取代之苯基，Ｃ1－Ｃ6烷基，Ｃ1－Ｃ6烷氧基，式羟基），－Ｌ－Ｎ（Ｒ8）（Ｒ9），－Ｌ－ＯＲ〞（式中，Ｒ〞示氢，Ｃ1－Ｃ6烷基，或Ｃ1－Ｃ6烯基），－Ｌ－ＯＣ（Ｏ）Ｒ12（式中，Ｒ12示Ｃ1－Ｃ6烷基或Ｃ1－Ｃ6烷氧基），－Ｌ－Ｓ（Ｏ）Ｒ〞，－Ｌ－ＳＣ（Ｏ）Ｒ8，

主权项

1.如下式Ⅰ所示之一种 唑衍生物 式中,A示甲基,乙基或异丙基; B示氢原子或甲基; X示氮原子; Y示2-甲氧基乙氧基,2-乙氧基乙氧 基,2-异丙氧基乙氧基,2-苯氧基乙 氧基,2-(2,2-二氯环丙基)乙氧 基,2-甲基硫基乙氧基,2-甲基磺醯 基乙氧基,炔丙基氧基,丁烯基-4-氧 基,苄氧基,环戊基氧基,环丙基甲氧基 ,(2,2- 二氯环丙基)甲氧基,(2 ,2-二氯-3-甲基环丙基)甲氧基, (2,2-二氯-3,3-二甲基环丙基 )甲氧基,四氢糠氧基,2-四氢 喃基 甲氧基; V示氢原子; W示氢原子; Z示甲基磺醯基: Q示氢原子。2.一种选择性除草组成物,它含有除草 有效 量之如申请专利范围第1项所定义之式Ⅰ 所示的一种 唑衍生物以及一种农业载剂 或稀释剂。3.防制莠草之一种方法,它包含将如申 请专 利范围第1项所定义之式Ⅰ所示的一种 唑衍生物,或其盐类,以其除草有效之剂 量施用至待受防护之部位上者。4.下式Ⅱ所示之 一种经取代的苯衍生物 式中,G示羧基,卤代羰基或氰基羰基; X示氮原子; Y示2-甲氧基乙氧基,2-乙氧基乙氧 基,2-异丙氧基乙氧基,2-苯氧基乙 氧基,2-(2,2-二氯环丙基)乙氧 基,2-甲基硫基乙氧基,2-甲基磺醯 基乙氧基,炔丙基氧基,丁烯基-4-氧 基,苄氧基,环戊基氧基,环丙其甲氧基 (2,2-二氯环丙基)甲氧基,(2 ,2-二氯-3-甲基环丙基)甲氧基, (2,2-二氯-3,3-二甲基环丙基 )甲氧基,四氢糠氧基,2-四氢 喃基 甲氧基; V示氢原子; W示氢原子; Z示甲基磺醯基。