发明名称 Elektrolytische Aufbereitungsvorrichtung und Verfahren zur elektrolytischen Aufbereitung, zum Waschen und Trocknen
摘要 Elektrolytische Aufbereitungsvorrichtung mit einer elektrolytischen Anlage zur Durchführung einer elektrolytischen Aufbereitung eines Wafers, einer Wascheinheit zur Waschung des aufbereiteten Wafers und einer Trockeneinheit zur Trocknung des Wafers. Die elektrolytische Anlage, die Wascheinheit und die Trockeneinheit sind in einer Prozesskammer angeordnet und als ein Modul ausgebildet. Auf diese Weise wird die elektrolytische Aufbereitung, die Waschung und die Trocknung von Wafern kontinuierlich an einem Ort durchgeführt.
申请公布号 DE102007057297(A1) 申请公布日期 2008.10.02
申请号 DE200710057297 申请日期 2007.11.28
申请人 TOKYO SEIMITSU CO. LTD. 发明人 FUJITA, TAKASHI;WATANABE, KYOUJI
分类号 H01L21/302;H01L21/306;H01L21/677 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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