发明名称 |
Elektrolytische Aufbereitungsvorrichtung und Verfahren zur elektrolytischen Aufbereitung, zum Waschen und Trocknen |
摘要 |
Elektrolytische Aufbereitungsvorrichtung mit einer elektrolytischen Anlage zur Durchführung einer elektrolytischen Aufbereitung eines Wafers, einer Wascheinheit zur Waschung des aufbereiteten Wafers und einer Trockeneinheit zur Trocknung des Wafers. Die elektrolytische Anlage, die Wascheinheit und die Trockeneinheit sind in einer Prozesskammer angeordnet und als ein Modul ausgebildet. Auf diese Weise wird die elektrolytische Aufbereitung, die Waschung und die Trocknung von Wafern kontinuierlich an einem Ort durchgeführt.
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申请公布号 |
DE102007057297(A1) |
申请公布日期 |
2008.10.02 |
申请号 |
DE200710057297 |
申请日期 |
2007.11.28 |
申请人 |
TOKYO SEIMITSU CO. LTD. |
发明人 |
FUJITA, TAKASHI;WATANABE, KYOUJI |
分类号 |
H01L21/302;H01L21/306;H01L21/677 |
主分类号 |
H01L21/302 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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