发明名称 电子装置之电子组绝层
摘要 本发明描述用于诸如非挥发性记忆体装置之电子装置的方法及设备。该等记忆体装置包括一多层控制介电质,诸如一双层或三层控制介电质。该多层控制介电质包括诸如氧化铝(Al#sB!2#eB!O#sB!3#eB!)、二氧化铪(HfO#sB!2#eB!)及/或氧化铝铪之混合膜的高k介电材料之组合。多层控制介电质提供增强特性,包括增加之电荷保留、增强之记忆体程式/擦除窗、改良之可靠性及稳定性与单态或多态(例如,两个、三个或四个位元)操作之可行性。
申请公布号 TW200840057 申请公布日期 2008.10.01
申请号 TW096149083 申请日期 2007.12.20
申请人 纳诺西斯有限公司 发明人 陈建;段镶锋;凯伦 克鲁登;刘超;梅胡利 纳拉包鲁;史利肯斯 伦加纳索;法兰西斯柯 里昂;J 瓦拉斯 帕斯
分类号 H01L29/792(2006.01);H01L21/8247(2006.01);H01L21/28(2006.01) 主分类号 H01L29/792(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国