| 摘要 |
[课题]提供一种曝光绘图装置，搭载着少数光源和复数个空间光调变元件，确保高的运转率，且可做温度管理。[解决方式]曝光绘图装置(100)系包括：光源(10)，照射紫外线；第一照明光学系统(30)，使来自光源的光束成行为平行光；有孔构件(20)，设有用于将来自第一照明光学系统的光束分离成矩形的第一光束和矩形的第二光束的第一矩形窗(21)及第二矩形窗(21)；第一及第二空间光调变装置(41)，将在有孔构件被分离的第一光束及第二光束做空间调变；以及投影光学系统(60)，将在这些第一及第二空间光调变装置(41)被空间调变的第一光束和第二光束导引至被曝光体。 |
