画素结构及其制造方法

摘要

一种画素结构的制造方法。首先，于基板上形成第一图案化导体层，其包括闸极以及资料线。接着，于基板上形成闸极绝缘层，以覆盖第一图案化导体层，并于闸极上方之闸极绝缘层上形成半导体通道层。然后，于闸极绝缘层以及半导体通道层上形成第二图案化导体层，其包括扫描线、共通电极线以及源极与汲极。扫描线与闸极电性连接，共通电极线位于资料线上方，而源极与汲极位于半导体通道层上，且源极电性连接资料线。随之，于基板上形成保护层，以覆盖第二图案化导体层，然后于保护层上形成画素电极，且画素电极与汲极电性连接。