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发明名称
透明电极应用于砷化镓制程
摘要
一种透明电极应用于砷化镓制程,系包括:一MHEMT晶圆磊晶结构、一透明闸极、一源极与一汲极。该MHEMT晶圆磊晶结构系利用分子束磊晶方式成长在一砷化镓基板上,该砷化镓基板上成长包括有一肖特基层与一覆盖层,该覆盖层系成长于该肖特基层上;该透明闸极系设于该肖特基层上,该透明闸极系为铟锡氧化物;该源极与该汲极系分别设于该透明闸极两侧的该覆盖层上,藉此,可有效增加受光范围,使该MHEMT晶圆磊晶结构对于光波更为敏感。
申请公布号
TW200839855
申请公布日期
2008.10.01
申请号
TW097118495
申请日期
2008.05.20
申请人
长庚大学
发明人
邱显钦;张连璧;林哲楷
分类号
H01L21/283(2006.01);H01L29/778(2006.01)
主分类号
H01L21/283(2006.01)
代理机构
代理人
魏广炯
主权项
地址
桃园县龟山乡文化一路259号
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