| 摘要 |
一种一第一参考点(H)与一第二参考点(S)之间高度差的测定，该二参考点(H，S)至少其中之一系位在安装于一基板(7)上之一半导体晶片(8)上，其步骤包括：A)记录来自一第一方向(2)之一第一影像，该第一方向系以一既定角α #sB!2#eB!与该基板(7)表面斜置地延展，该基板(7)及该半导体晶片(8)系由一第二方向照射，该第二方向系以一既定角α #sB!3#eB!与该基板(7)表面斜置地延展，一远心光学装置(11)系位于光径中，B)记录来自该第二方向(3)之一第二影像，该基板(7)及该半导体晶片(8)系由该第一方向照射，该远心光学装置(11)抑或又一远心光学装置系位于光径中，C)确认该第一影像中之该第一参考点(H)位置的一第一座标、及该第二参考点(S)位置的一第一座标，且决定该二座标之间的一第一差距，D)确认该第二影像中之该第一参考点(H)位置的一第一座标、及该第二参考点(S)位置的一第一座标，且决定该二座标之间的一第二差距，及E)由该第一差距及该第二差距计算该高度差。 |
