化学机械研磨（ＣＭＰ）装置之平台

摘要

（课题）使平台之维护作业容易且能兼顾剥离性及耐腐蚀性两种特性。（解决手段）化学机械研磨装置系为，一边对贴附在被施转驱动的平台上的研磨垫供给研磨浆，一边将晶圆按压于研磨垫以进行研磨，其中平台系由铝合金制的本体部、被覆于该本体部表面的镍层、以及形成在该镍层上的剥离调整层所构成，该剥离调整层对前述研磨垫具有适度的剥离性能。又，剥离调整层系例如利用氟树脂而形成，且兼备有对研磨垫之剥离性、及对研磨浆等药液L之耐腐蚀性两者。