发明名称 用于沉淀矽石材料生产中之高电解质添加量
摘要 本发明系关于包括多孔矽石粒子之沉淀矽石,其藉由压汞量测,对所有直径大于500埃的孔而言系具有小于6平方米/克之累积表面积,并且具有大于约85%的百分比氯化十六烷基啶(%CPC)相容性。该沉淀矽石产物尤其极适用于含氯化十六烷基啶之洁齿剂,氯化十六烷基啶并未以有意义量黏着于低表面积矽石产物且因此仍具有抗微生物作用。本发明提供制造该矽石产物之方法,该方法包括在不同制程步骤期间引入硫酸钠粉末以增强此一与CPC之相容性。
申请公布号 TW200838565 申请公布日期 2008.10.01
申请号 TW096143741 申请日期 2007.11.19
申请人 J M 许贝公司 发明人 派克 唐诺 迈基尔;卡洛 盖里斯
分类号 A61K8/25(2006.01);C01B33/12(2006.01) 主分类号 A61K8/25(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国