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发明名称
微波电浆束成长含碳薄膜之装置、方法及制成品
摘要
本发明系关于一种成长含碳薄膜之装置、方法和制成品,发明中利用微波电浆束辅助化学气相沈积系统,并配合天线之传导,制造甲烷与氢气气氛环境,于电浆束中解离出适能且适量的氢离子、碳离子及碳离子团以合成含碳薄膜。其中,碳离子源于薄膜层及晶粒表面进行沈积,受微波电浆束具有较高化学活化基特性的影响,使合成过程中有效抑制一晶格面的成长,相对提升另一晶格面的成长,其可成功合成出高方向性组织结构之含碳薄膜。发明中微波电浆束改善电浆密度不均之问题,其提高晶粒成长密度、细化晶粒及提高基材强韧性、耐磨耗等性质。
申请公布号
TW200839026
申请公布日期
2008.10.01
申请号
TW096110652
申请日期
2007.03.27
申请人
国立台北科技大学
发明人
林启瑞;苏春;张靖郁;洪新钦
分类号
C23C16/26(2006.01);C23C16/511(2006.01);C23C16/52(2006.01)
主分类号
C23C16/26(2006.01)
代理机构
代理人
罗行;赖安国
主权项
地址
台北市大安区忠孝东路3段1号
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