发明名称 辐射系统及微影装置
摘要 本发明系关于一种用于产生电磁辐射之辐射系统。该辐射系统包括一对电极,其经建构及经配置以产生一第一物质之电浆及在该电浆中之一自束。该辐射系统亦包括一电浆重组表面,其邻近该自束而配置,且经组态以中和复数个电浆粒子。
申请公布号 TW200840423 申请公布日期 2008.10.01
申请号 TW096146370 申请日期 2007.12.05
申请人 ASML荷兰公司 发明人 马登 马瑞司 琼恩 威贺默思 凡 赫本;维顶 维根维齐 班尼;法拉帝莫 维塔拉维屈 依法诺;康士坦汀 尼可拉威屈 卡士李;德克 珍 威弗瑞德 克朗德
分类号 H05G2/00(2006.01);G03F7/20(2006.01) 主分类号 H05G2/00(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰