发明名称 |
辐射系统及微影装置 |
摘要 |
本发明系关于一种用于产生电磁辐射之辐射系统。该辐射系统包括一对电极,其经建构及经配置以产生一第一物质之电浆及在该电浆中之一自束。该辐射系统亦包括一电浆重组表面,其邻近该自束而配置,且经组态以中和复数个电浆粒子。 |
申请公布号 |
TW200840423 |
申请公布日期 |
2008.10.01 |
申请号 |
TW096146370 |
申请日期 |
2007.12.05 |
申请人 |
ASML荷兰公司 |
发明人 |
马登 马瑞司 琼恩 威贺默思 凡 赫本;维顶 维根维齐 班尼;法拉帝莫 维塔拉维屈 依法诺;康士坦汀 尼可拉威屈 卡士李;德克 珍 威弗瑞德 克朗德 |
分类号 |
H05G2/00(2006.01);G03F7/20(2006.01) |
主分类号 |
H05G2/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |