| 摘要 |
本发明系关于一种对微影光罩(1)上之结构的测量装置，该装置包含：至少一个发出相干光的照射源(3、7)，其系经由一条照射光束路径(4、8)以照射微影光罩(1)；一个收纳微影光罩(1)的空间上可移置的台座(2)，其位置系藉由雷射干涉量测而受到控制；一个成像装置，将来自于微影光罩(1)的光成像于一个侦测装置(13)上；以及，一个耦接至侦测装置的评估装置(14)，而该评估装置(14)评估所侦测到的信号，并判定诸结构之位置。在此种装置中，至少一个场挡板(15、16)被设置于照射光束路径(4、8)中，而该场挡板(15、16)具有对应于在成像于该微影光罩(1)上之期间围绕着结构的区域之大小，该区域则对于所有的结构显现为等同。 |
