半导体积体电路装置的制造方法

摘要

由于在受光部上形成开口部用的抗蚀剂膜产生裂纹，使得连非意图的部分的层间绝缘膜都被蚀刻。为了对此裂纹进行防范，将用作蚀刻遮罩的抗蚀剂图案的形状作成使应力分散的形状。由于在将抗蚀剂曝光、显影后实施后烘烤而使抗蚀剂固化，以致产生应力。为使该应力分散，将抗蚀剂图案的开口部形成为没有角部的平面形状。因而，本发明提供一种半导体积体电路装置的制造方法。