浸没曝光设备

摘要

一扫描浸没曝光设备包括一能够使与液体接触之区域运送至另一构件之架台。该架台具有一组构成能够使该区域被运送至该另一构件之运送部分、及用以关于一光罩定位该架台之一或多个参考记号。该运送部分系设置在与紧接在曝光之前相对第一扫描线所测量的参考记号之相反侧面上，该第一扫描线通过该基板之中心与延伸垂直于一扫描方向。